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光刻机又名:掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻,所以叫MaskAlignmentSystem。目前,世界上能制造光刻机的国家有荷兰、日本、德国和中国。
目前能制造高端光刻机的厂家有:荷兰ASML,日本Nikon,日本Canon,以及上海微电子装备和德国的欧泰克。