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真空镀膜时控制膜层厚度的方法有:
1、由时间和功率控制膜层的厚度:根据厚度等于时间乘以速率,改变功率以保证V接近常数,再通过时间来控制厚度;
2、石英晶体监控:监测晶振片的振动频率,根据厚度与频率的变化关系,计算当前厚度来控制;
3、光学监控:直接测量膜系的光学特性;
4、目测:肉眼观测反射颜色来控制膜层厚度,误差太大。